Resistencia a la compresión de resinas compuestas a base de metacrilato y de silorano

tencia a la compresión de resinas compuestas a base de silorano y a base de metacrilato. Materiales y métodos: Treinta muestras con formato de disco fueron confeccionadas insertando las resinas, de forma incremental, en una matriz de aluminio (10 mm de diámetro × 15 mm de alto). El tiempo de fotoact...

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Bibliographic Details
Main Author: Alexander Fernández-Rodríguez; Anderson Fuentes-Claros; Diana Rocío Salcedo-Santamaría; Dr. Diego Noroña; José David Ruan-Antury; Eugenio José García
Format: publishedVersion
Language:spa
Published: 2019
Subjects:
Online Access:http://hdl.handle.net/11086/13448
Description
Summary:tencia a la compresión de resinas compuestas a base de silorano y a base de metacrilato. Materiales y métodos: Treinta muestras con formato de disco fueron confeccionadas insertando las resinas, de forma incremental, en una matriz de aluminio (10 mm de diámetro × 15 mm de alto). El tiempo de fotoactivación de cada incremento fue de 20 segundos (Filtek? P60, 3M ESPE) y 40 segundos (Filtek? P90, 3M ESPE), utilizando una lámpara de luz halógena a 500 mW/cm2 . Luego de ser almacenadas en agua destilada a 23 ± 2 °C y 50 ± 5% de humedad relativa durante 40 horas, las muestras fueron sometidas al test de resistencia a la compresión, en una máquina de ensayos universal (1,3 mm/min). Los datos (en MPa) fueron analizados estadísticamente mediante ANOVA y prueba de Tukey (α=0,05). Resultados: Los valores de resistencia a la compresión de P60 fueron estadísticamente superiores a los de P90 (P60=371,91±58,76; P90=264,41±30,33). Conclusión: La resina compuesta a base de silorano presentó los valores más bajos de resistencia a la compresión.