Experimental determination of multiple ionization cross sections in Si by electron impact

Fil: Pérez, Pablo Daniel. Universidad Nacional de Córdoba. Facultad de Matemática, Astronomía y Física; Argentina.

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Main Authors: Pérez, Pablo Daniel, Sepúlveda, Andrés, Castellano, Gustavo, Trincavelli, Jorge
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Language:eng
Published: 2022
Subjects:
Online Access:http://hdl.handle.net/11086/23708
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author Pérez, Pablo Daniel
Sepúlveda, Andrés
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spelling rdu-unc.237082023-05-22T18:44:05Z Experimental determination of multiple ionization cross sections in Si by electron impact Pérez, Pablo Daniel Sepúlveda, Andrés Castellano, Gustavo Trincavelli, Jorge Inner-shell ionization X-ray emission Spectral processing Transition rates acceptedVersion Fil: Pérez, Pablo Daniel. Universidad Nacional de Córdoba. Facultad de Matemática, Astronomía y Física; Argentina. Fil: Pérez, Pablo Daniel. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Instituto de Física Enrique Gaviola; Argentina. Fil: Sepúlveda, Andrés. Universidad Nacional de Córdoba. Facultad de Matemática, Astronomía y Física; Argentina. Fil: Sepúlveda, Andrés. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Instituto de Física Enrique Gaviola; Argentina. Fil: Castellano, Gustavo. Universidad Nacional de Córdoba. Facultad de Matemática, Astronomía y Física; Argentina. Fil: Castellano, Gustavo. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Instituto de Física Enrique Gaviola; Argentina. Fil: Trincavelli, Jorge. Universidad Nacional de Córdoba. Facultad de Matemática, Astronomía y Física; Argentina. Fil: Trincavelli, Jorge. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Instituto de Física Enrique Gaviola; Argentina. The thin sample method is often used to experimentally determine ionization cross sections, specially when focusing on the low overvoltage region. The simplicity of the formalism involved in this method is very appealing, but some experimental complications arise in the preparation of thin films. In this work, a thick sample method was used to measure the Si-K x-ray production cross section by electron impact. The good agreement between the results obtained and the values reported in the literature validates the method and the parameters used. The advantages and disadvantages of the method are discussed and its application is extended to the determination of Si multiple ionization cross sections, where the very low emission rates (around two orders of magnitude lower than the single ionization case) make the use of the thin sample method impracticable. acceptedVersion Fil: Pérez, Pablo Daniel. Universidad Nacional de Córdoba. Facultad de Matemática, Astronomía y Física; Argentina. Fil: Pérez, Pablo Daniel. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Instituto de Física Enrique Gaviola; Argentina. Fil: Sepúlveda, Andrés. Universidad Nacional de Córdoba. Facultad de Matemática, Astronomía y Física; Argentina. Fil: Sepúlveda, Andrés. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Instituto de Física Enrique Gaviola; Argentina. Fil: Castellano, Gustavo. Universidad Nacional de Córdoba. Facultad de Matemática, Astronomía y Física; Argentina. Fil: Castellano, Gustavo. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Instituto de Física Enrique Gaviola; Argentina. Fil: Trincavelli, Jorge. Universidad Nacional de Córdoba. Facultad de Matemática, Astronomía y Física; Argentina. Fil: Trincavelli, Jorge. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Instituto de Física Enrique Gaviola; Argentina. Física Atómica, Molecular y Química (física de átomos y moléculas incluyendo colisión, interacción con radiación, resonancia magnética, Moessbauer Efecto.) 2022-04-07T18:24:46Z 2022-04-07T18:24:46Z 2015 article De ésta versión: Pérez, Pablo Daniel; Sepulveda Peñaloza, Andres Humberto; Castellano, Gustavo Eugenio; Trincavelli, Jorge Carlos; Experimental determination of multiple ionization cross sections in Si by electron impact; American Physical Society; Physical Review A: Atomic, Molecular and Optical Physics; 92; 6; 12-2015; 62708001-62708008 [versión aceptada] http://hdl.handle.net/11086/23708 http://hdl.handle.net/11086/23708 De la versión publicada: DOI 10.1103/PhysRevA.92.062708 eng De la versión publicada: DOI 10.1103/PhysRevA.92.062708 Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 International http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0/ Impreso; Electrónico y/o Digital ISSN: 1050-2947
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